我国芯片领域取得新突破
自半导体产业诞生以来,光刻技术始终发挥着关键作用,是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。在芯片制造过程中,光刻肩负着将设计图纸上的电路图案转印至硅片的关键任务,其中,光刻胶在显影液中的“一举一动”,直接决定了数以亿计晶体管的形态与芯片的最终良率。然而,这个发生在液态环境中的微观过程,始终是无法被直接观测的“黑匣子”,困扰着全球科学界。北京大学化学与分子工程学院教授彭海琳、教授高毅勤、博士郑黎明与清华大学教授王宏伟、香港大学博士刘楠等,利用前沿的冷冻电子断层扫描技术,成功揭开了这个“黑匣子”的神秘面纱。
2025-10-29