有望4年内展示等效硅基1纳米性能
来源:2026年01月07日《解放日报》
本报讯(记者 查睿)昨天,国内首条二维半导体工程化示范工艺线在上海投入运行。该工艺线由复旦大学孵化培育的产学研企业原集微科技(上海)有限公司创建,预计在今年6月进入通线阶段,第三季度实现等效硅基90纳米制程。
集成电路是上海市三大先导产业之一,二维半导体作为下一代技术的前沿方向,是破解芯片发展难题的关键突破口。二维半导体凭借原子级厚度、高载流子迁移率等独特优势,能有效破解硅基技术路线下摩尔定律失效的困境,在高频通信、柔性电子、量子计算等领域具有广泛应用价值。
目前,最常见的芯片都是由硅基材料生产的,随着硅基晶体管尺寸的不断缩小,芯片制造工艺的难度呈指数级上升。打个比方,硅基晶体管就像一个水龙头,电子就是水流,当水管越来越细,龙头内壁容易变得粗糙不平,导致水流流速变慢。而二维半导体材料厚度为原子级,突破了硅基材料的物理极限,因而一举解决硅基芯片“电子逃逸”的难题。目前,美国、欧盟纷纷加大二维半导体材料的科研产业化投入。
“我们计划2—3年内,利用工程示范线的工艺能力,实现等效硅基5纳米乃至3纳米性能,争取在4年内展示等效硅基1纳米性能的解决方案。”原集微创始人包文中表示。